HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術(shù)參數(shù)

HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術(shù)參數(shù)范圍

本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學(xué)品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術(shù)器械進行煮沸消之用。

HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術(shù)參數(shù)技術(shù)參數(shù)

型號：HW.SY21-KP4（二列四孔）

規(guī)格：智能

功率：1000W

電源：220V±2V  50Hz

控溫范圍：室溫+5℃～99.9℃

水溫波動性、水溫均勻性：≤±0.5℃

水槽尺寸（mm）：（325×300×90）

特點:

    產(chǎn)品的內(nèi)膽、外殼均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼拉絲板材，溫控系統(tǒng)采用微機PID智能控制，感熱性能強、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內(nèi)。