HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋技術簡介

HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋技術簡介：HW.SY11-KP3適用范圍：本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用

適用范圍

本產(chǎn)品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品、檢查血清和生化實驗，恒溫培養(yǎng)以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用。

HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋技術簡介技術參數(shù)

型號：HW.SY11-KP3（三孔三溫）

規(guī)格：智能

功率：900W

控溫范圍：室溫+5℃～99.9℃

水溫波動性、水溫均勻性：≤±0.5℃

水槽尺寸（mm）：（150×140×90）×3

特點

   產(chǎn)品的內(nèi)膽、外殼均采用優(yōu)質不銹鋼拉絲板材，溫控系統(tǒng)采用微機PID智能控制，感熱性能強、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內(nèi)